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中國申請人在日本申請專利數(shù)量統(tǒng)計及分析

2018-09-02

  2017 年,面向日本的發(fā)明申請量比去年增加了9.5%;面向日本的實用新型的申請量比去年增加了1.8%;面向日本的外觀申請量比去年增加了39%。以下為近六年來中國國籍申請人在日本的申請量統(tǒng)計:

  

  從上述2017 年的統(tǒng)計來看,中國國籍的申請人面向日本的申請量很明顯在增加。另外,2017 年美國國籍的申請人面向日本的商標申請件數(shù)為8789件(其中國際申請為3805件),和中國國籍申請人的本年度申請量接近。照此趨勢,2018 年中國國籍的申請人面向日本的商標申請量很有可能超過美國,成為首位。關于發(fā)明的申請件數(shù),中國國籍的申請人面向日本的發(fā)明申請件數(shù)為4172 件,而美國國籍的申請人面向日本的發(fā)明申請件數(shù)為23949 件,為中國的5.7倍,預計上述差異將逐年減少。

 

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